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正弯月透镜特点： 正弯月透镜由两个曲率半径相近的曲面构成，具有正焦距。通常用于减小另一透镜的焦距， 增大数值孔径等相关应用。为减少球差，在扩束或缩束或者发散准直光应用时，光束应入射到透镜凸面上；用于汇聚光准直时，光束入射在凹面上。正弯月透镜主要是用于小化球差。与另外一款透镜结合使用时，正弯月透镜可以减小焦距，在不引入明显球面像差的情况的同时增加系统数值孔径(NA)。当用于会聚平行光时，为了使球差小化透镜的凸面应朝向光源发射的方向。镀膜后的透镜也广泛应用于于可见光和近红外应用领域。可以制定改善膜系温度稳定性的措施。中国澳门观月滤光片公司

对待UV光时，需要特殊的UV光学理论。UV应用中重要的材料参数是低泡和夹杂物含量，折射率很好的均匀性，双折射很小，表面很光滑。尤其是应用强UV激光器时，长期抗紫外线强度也很重要。在纯的氟化钙中需要用到UV光学，该材料具有很低的UV吸收，很高的均匀性，低双折射，高硬度（与其它氟化物材料相比），高稳定性和高损伤阈值。可以在低于160nm时使用，因此可用于氟化氩准分子激光器。但是它是易碎的，非各向同性的，并且吸湿。它的替代物是UV级的熔融二氧化硅，可以用于波长小于200nm时，而便宜的标准的熔融二氧化硅在小于260nm时具有很大的损耗。另一个可用的材料是钻石，它在小于230nm时是透明的，但是非常昂贵。有些光纤可以用于近紫外光谱区域，但是传播损耗相对比较高。用光纤传输紫外光在波长较短或者功率更高的情况下都是不可行的。在EUV区域，几乎所有的固体材料都有强烈的吸收，空气中在小于200nm时也会产生很强的衰减，因此真空UV或EUV用于光刻时需要在真空条件下。布拉格反射镜可以在EUV区域，采用钼/硅（Mo/Si）结构制备，在12nm处可以得到约70%的反射率。由于其反射率有限，因此需要改变EUV光学结构设计得到极小数目的反射表面。青海H-alpha滤光片购买滤光片的作用很大，用于摄影界。

普通IR随角度变化导致光谱偏移，会导致shading 的问题：   普通IR中心波长偏移量在入射角0°~30°，偏移30nm左右，会形成色彩不均匀现象；蓝玻璃IR中心波长偏移量在入射角0°~30°，偏移2nm左右，不会出现黑角及红斑现象。   总结：  手机摄像头越来越薄，镜头的光学设计和sensor的CRA进一步增大，导致反射式IR的上述不良现象更加凸显。蓝玻璃对色偏以及杂光、鬼影问题改善明显，拍摄的照片色彩更加柔和、自然。因此，追求效果的摄像头必选蓝玻璃。

所谓离子镀，是真空蒸发与溅射两种技术结合而发展起来的一种新工艺．其优点为：膜层附着力强，膜层密度高，均匀性好，淀积速率快．主要用于制造高硬度的机械刀具和耐磨的固体润滑膜，在金属和塑料等制品上制造耐久的装饰膜．目前又发展了低压反应离子镀技术，可获得表面粗糙度好的薄膜．离子辅助镀是利用一束离子源，在镀膜的同时对基体以某种气体的离子轰击{ 如Ar)．改进了薄膜的性质，改善了薄膜的微观结构，应力状态等．其原理是将外加射束的能量传递给淀积分子，从而提高分子的迁积率，由于离子质量大，容易将能量交给淀积分子或原子，使得离子轰击较大地影响薄膜的淀积．在镀膜中应用主要表现在基体清洗促进薄膜生长，增强膜的强度，改善了膜的附着性。可以说没有滤光片技术的发展作为基础,很多近现代新兴技术都难以取得目前的成就。

荧光基本概念和原理 一、简介 某些物质被一定波长的光照射时，会在较短时间内发射出波长比入射光长的光（入射光的一部分能量被该物质吸收，使得发射出来的光较原来的光能量低、波长长），这种光就称为荧光。1852年Stokes阐明了荧光发射的机制，认为荧光是由于物质吸收了光能而重新发出的波长不同的光，并由一种能发荧光的矿物¾¾萤石(fluospar)而定名为荧光。 我们通常所说的荧光，是指物质在吸收紫外光后发出的波长较长的紫外荧光或可见荧光，以及吸收波长较短的可见光后发出波长较长的可见荧光。除了紫外荧光和可见荧光，还有红外荧光、X射线荧光等。 荧光光谱有两个主要优点：是灵敏度高。由于荧光辐射的波长比激发光波长长，因此测量到的荧光频率与入射光的频率不同。昊跃光学生产生物医学滤光片。湖南UHC滤光片公司

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