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关于半导体工艺这点你要知道(3)光刻技术(PhotoLithography)工艺

2. 光刻胶(PR, Photo Resist)

光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。市面上导电胶分多种，而其中专业内存存储测试这块的，就是导电胶测试垫片。重庆芯片导电胶

关于半导体工艺这点你要知道（7）金属化（metallization）工艺

什么是金属化工艺？

金属化工艺（Metalization）也称为金属成形过程或金属布线过程。半导体通过各层的连接实现电路的运作，这就需要“金属化工艺”。我们需要连接线路接收来自外部的电能，使元件之间的信号不会混合在一起。

用于金属化工艺的“金属条件”所有类型的金属都可以用于金属化工艺吗？That‘s No No.用于形成电极层并连接各层的金属有几个条件：

1、易于晶片的附着性；2、低电阻；3、热、化学稳定性；4、易于图形形成；5、高可靠性；6、制造成本。武汉导电胶生产厂家ICE lake U Based Memory Tester (DRAM Test MB)。

关于半导体工艺这点你要知道（4）蚀刻工艺

干法（Dry）蚀刻方法与等离子体（Plasma）

蚀刻技术的铜版画美术和半导体工艺存在方法上的差异；在美术中，利用锋利的雕刻工具制造出线路，而在工程中，首先用光刻胶（Photo Resist）制造出保护膜。然后进行蚀刻.

这样的蚀刻工序根据引起反应的物质的状态可以分为湿法和干法两种。

干法与湿法相比有费用高、方法难等缺点，但近为了提高产出率和超细电路蚀刻，干法被使用！

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「半导体专题讲座」芯片测试（Test）

半导体测试目的

半导体测试的目的是挑出劣质芯片，在这个过程中检查并改进先前进行的工艺，筛选率（Screenability）一直是非常重要的问题，它能让劣质芯片不进入到下一道工序。因此晶圆测试（Wafer Test）的目标是防止劣质芯片被不必要地封装，从而降低成本，进而提高盈利能力。包装测试是为了确保高质量的半导体交付给客户，以防止劣质产品出货。此外即使良品芯片出货到客户手上，也会出现芯片动作错误（Fault），为了让用户在一段时间内安全地使用芯片，在制造过程中提前挑出薄弱的芯片（在产品的整个生存期内筛选出初期/中期不良），确保可靠性（Reliability）是非常重要的。这样进行的测试结果（Performance）可以通过内部反馈改善工艺，也可以积极用于半导体技术和产品的研究开发。DDR3是应用在计算机及电子产品领域的一种高带宽并行数据总线。

关于半导体工艺这点你要知道 (5)扩散(Diffusion) 工艺

4、扩散工艺中的两个重要条件

1) Constant Source Diffusion恒定源扩散

2) Limited Source Diffusion有限源扩散

.这意味着过程中的dose量必须是恒定的。如果你在硅晶格中doping了太多的杂质，就失去了使用硅的意义，对吧？

5、扩散的两个STEP扩散分两个step进行：前述CSD主要从硅薄层表面膜中加入杂质时开始应用。

指此为预淀积步骤(pre-depositionstep)。

第二步是（）drive-in,这意味着你要从硅表面做多深的dose我们来了解一下这个pre-deposition->drive-in的扩散过程。

生产一个半导体需要很多工艺，我们一起期待下一章。基于MTK平台开发LPDDR、EMMC、UFS测试仪器，并可根据客户需求进行因件及软件调试。成都导电胶批发厂家

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「半导体工程」半导体？这点应该知道：（8）Wafer测试&打包工程

晶圆测试工艺的四个步骤

1)电气参数监测和老化测试（EPM&WFBI）

EPM(电气参数监测)是ElectricalParameterMonitoring的缩写，是通过测试半导体直接电路(IC)运动所需的各个元件的电气直流电压、电流特性的参数来确定其工作是否良好的过程。WFBI(老化测试）是WaferBurnIn的缩写，是对晶片施加一定温度的热量，然后施加AC/DC电压，找出潜在产品缺陷的过程。通过这两个步骤可以提高有效提高早期产品良率。

2)温度测试（Hot&ColdTest）

通过电气信号来判断晶片上的每个芯片是否有异常。有问题的芯片中可以修复的芯片存储信息，以便修复过程处理。为了确定在特定温度下发生的不良，所以在高温或低温下进行测试，。重庆芯片导电胶

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